euv光刻機

① EUV光刻機難還是原子彈難呢

光刻機更難，而且在難度上不止一個數量級。且聽我慢慢道來。

EUV光刻機是荷蘭ASML的第五代產品。從第一代光刻機開始到現在，已經20多年時間了。提到荷蘭的ASML公司，您也許會比較陌生。不過，這個公司的前身您一定聽說過它的名字，那就是在八九十年代充斥電視熒屏廣告時間的飛利浦公司。嘿嘿，想起來了吧。

由於光刻精度只有幾個納米，所以EUV光刻機對光的集中度要求極高， 它的整機系統對於精細化究竟達到一個怎樣的變態程度，這里有一個比喻，可以幫助您加深理解。相當於拿個激光手電筒照到月球，光斑不超過一枚硬幣。而反射用的鏡子，要求其長30cm起伏不到0.3nm，這相當於是北京到上海做根鐵軌起伏不超過1毫米。

這其中精密零件製造背後涉及到的精密機床，目前其實也是咱們的相對短板。當然，荷蘭EUV光刻機，它的零件90%也是進口的，目前主要在他那裡進行組裝和調試，其中日本主要提供光學鏡片，德國提供精密零件、瑞士提供清洗設備，美國提供研發支撐，當然，其中也有咱們器件。

所以，可以毫不誇張的說，這光刻機幾乎集中了地球上的所有頂尖技術，若是一個國家就能夠獨立設計及生產的話，那它的科技絕對可以吊打全球。

② 頂級的euv光刻機價格極高，它的市場卻為何還供不應求

隨著經濟的飛速騰飛，國內的科技公司對於晶元的的需求激增，人們開始了解到光刻機這種設備。人們或許會奇怪為什麼一些公司能夠設計出高檔的晶元，例如華為的麒麟晶元的性能不輸高通的驍龍晶元，卻無法自己生產而需要代工呢。這里涉及到一種“卡脖子”技術——光刻機。下面討論一下光刻機市場供不應求的原因。

鑒於我國實際的EUV生產狀態和國外技術的封鎖，可想而知，EUV光刻機在我國市場是供不應求的。EUV光刻機可以看作是一種限制他國的技術手段，長期引進也不是一條長遠的道路，為了國家在這方面高端技術有一席之地，科研人員仍然需要努力奮斗，在外國的封鎖中走出屬於自己的一條路。

③ 如何看待長春光機所euv光刻機進展

長春光機所EUV光刻機此次進展是國產光刻機光源的突破性進展，技術水平領先世界。

眾所周知，EUV光刻機是目前製造高端晶元所需要的最關鍵設備，只有荷蘭的ASML公司能生產，這也是我國科技方面卡脖子的關鍵技術之一。

我國目標是要在2025年實現晶元自給率70%，要想實現這個目標，在高端EUV光刻機上實現突破是關鍵。

長春光機所EUV光刻機此次進展無疑給高端EUV光刻機的研究工作打了一劑強心針。

長春光機所科研成果：

2015年，研究所研製出中國第一台紅寶石激光器、第一台大型電影經緯儀等多種先進設備儀器，創造了十幾項「中國第一」。

先後參與了包括「兩彈一星」、「載人航天工程」等多項國家重大工程項目，先後組建和援建了西安光機所、上海光機所、成都光電所、長春光機學院等10餘家科研機構、大專院校和企業單位。

完成了一批國家重大任務，取得了以「神舟五號」、「神舟六號」有效載荷等為代表的一批重大科研成果。

成為中國航天光學遙感與測繪設備、機載光電平台及新一代航空遙感設備和靶場大型光測裝備的主要研究、生產基地，在光電對抗、地基空間探測等領域具有影響力。

2016年11月11日，由中國科學院長春光學精密機械與物理研究所承擔的國家重大科研裝備研製項目「大型高精度衍射光柵刻劃系統的研製」通過驗收，並製造出世界最大面積中階梯光柵。

這標志著我國大面積高精度光柵製造中的相關技術達到國際領先水平。

不僅打破了我國在該領域受制於人的局面，而且能幫助我國光譜儀器產業改變低端化現狀，提升拓展國際市場的能力。

④ 集全國之力，中國能否在2030年實現EUV光刻機國產化

首先，我們明白，光刻機有很多種類，比如前道光刻機、後道光刻機，後道光刻機主要用於封裝，而前道光刻機又分為面板光刻機和晶元光刻機。我們大家所說的光刻機其實主要指的是前道光刻機里的晶元光刻機。

⑤ 對於冰刻技術來說，在理論和技術上能實現現在的EUV光刻機的精度嗎

為了使水蒸氣凝結在晶元上，必須在零下140C進行，此外，還需要使用電子束刻印機，所以雕刻一點的速度很慢。從製造效率來看，這種冰雕技術不如光刻機。冰角的解析度主要取決於電子束刻印機。電子束直寫的准確度已經達到10納米以下，但國內電子束直寫的准確度只有1微米，沒有達到納米級別。事實上，冰雕技術只是用水蒸氣代替了化學的廣角粘合劑。冰塊系統發布了。這次冰雕是升級版本，主要是將原料生產成成品。因為傳統的光刻膠是化學試劑，所以光刻膠完成後必須清洗，如果清洗不幹凈，產率可能會下降。水蒸氣凝固代替傳統的光致抗蝕劑後，沒有清潔、不清潔等問題。

90nm的碳基晶元性能相當於28nm的硅基晶元，45nm的碳基晶元相當於7nm的硅基晶元。但是碳基晶元仍然需要使用光刻機，目前國內工藝最小的光刻機也停留在90nm，使用冰膠的電子束直接寫入光刻機仍然在微米層。因此，此次冰面技術對國內碳基晶元沒有太大幫助。可以用很多方法製作晶元，甚至精度比光刻機高，但最大的問題是沒有辦法解決效率問題，光刻機現在是最有效率的。據路邊社報道，實際上全世界對euv光刻機器的需求只有600台。也就是說，這東西效率相當高。

⑥ EUV光刻機與原子彈，相比之下哪一個更難造

光刻機和原子彈相比到底哪個難，這兩個其實沒有辦法放在一塊去比較，因為兩者不是處於一個時代的東西，要比較兩個事物，它本身一定是有相同的地方，要麼是縱軸上有相似，要麼就是橫軸上有相似，但顯然光刻機和原子彈他們兩個應用的領域和時代完全不同。

一台高精度的光刻機，有10多萬個零件組成，集合了全球幾千家科技公司的智慧結晶，可以說一台高端的光刻機，它製作出來的晶元就相當於是一個模擬的人類大腦，這可以說是人類智慧文明的巔峰，目前來說應該是這樣的，所以光刻機的製造不是那麼簡單的事情，這需要一個長年累月的研究，也需要技術的積累。

⑦ 光刻機裡面EUV是什麼

光刻機裡面的意猶未的意思就是你達到正常的范圍，它就會給你報警。

⑧ EUV光刻機難還是原子彈難

光刻機和原子彈不是一個時代的東西，製造的難度也各不相同，因為兩者不是一個時代的，所以不能把它完全的放在一塊去比較，但是如果非要去計較它的製造難度的問題的話，顯然是現在的功課機製造起來更難。

從一項科技的研發上來看是現在的光刻機會更難，因為原子彈已經是攻克的東西了，我們做一個比喻就是我們在初中學的那些東西和在大學學的那個東西，到底哪個更難，肯定是大學的東西更難，因為初中的東西我們已經完全掌握了，不然的話也到不了大學時代，在不斷的發展，不是一個時代的東西，把初中和高中的難度放在一塊去比較肯定是不現實的，就像原子彈和光刻機放在一塊去比較，他們差了60年的時間，時代不同。

⑨ 韓國晶元巨頭斥資280億，采購EUV光刻機，為何EUV光刻機很難製造

當晶元技術進入7nm的時候，會用到一台光刻機，就是EUV光刻機，也是一台極紫外光刻機，但是這台光刻機目前只能由荷蘭的ASML製造。那麼問題來了。EUV光刻機製造的難點是什麼？為什麼只有ASML能製造，而中國的佳能、尼康、上海微電子不能？首先要說的是，極紫外線的產生過程真的很難。EUV光刻機使用極紫外線，即“極紫外線”，波長為13.5納米(可見光中波長最短的紫光，波長約為380-450納米)。在ASML EUV光刻機中，高純錫被加熱熔化，然後噴入真空中形成錫珠。然後對這些焊珠進行激光照射，使其變成粉餅，再對這些粉餅進行大功率二氧化碳激光照射，然後發射出極遠的紫外線。

因此，這幾步加在一起，目前全球能夠擁有 EUV光刻機技術的，也就只有 ASML，一是自身的技術實力，二是與 TRUMPF公司、 Callenco公司等深度結合，三是與三大公司的技術整合。