euv光刻机

① EUV光刻机难还是原子弹难呢

光刻机更难，而且在难度上不止一个数量级。且听我慢慢道来。

EUV光刻机是荷兰ASML的第五代产品。从第一代光刻机开始到现在，已经20多年时间了。提到荷兰的ASML公司，您也许会比较陌生。不过，这个公司的前身您一定听说过它的名字，那就是在八九十年代充斥电视荧屏广告时间的飞利浦公司。嘿嘿，想起来了吧。

由于光刻精度只有几个纳米，所以EUV光刻机对光的集中度要求极高， 它的整机系统对于精细化究竟达到一个怎样的变态程度，这里有一个比喻，可以帮助您加深理解。相当于拿个激光手电照到月球，光斑不超过一枚硬币。而反射用的镜子，要求其长30cm起伏不到0.3nm，这相当于是北京到上海做根铁轨起伏不超过1毫米。

这其中精密零件制造背后涉及到的精密机床，目前其实也是咱们的相对短板。当然，荷兰EUV光刻机，它的零件90%也是进口的，目前主要在他那里进行组装和调试，其中日本主要提供光学镜片，德国提供精密零件、瑞士提供清洗设备，美国提供研发支撑，当然，其中也有咱们器件。

所以，可以毫不夸张的说，这光刻机几乎集中了地球上的所有顶尖技术，若是一个国家就能够独立设计及生产的话，那它的科技绝对可以吊打全球。

② 顶级的euv光刻机价格极高，它的市场却为何还供不应求

随着经济的飞速腾飞，国内的科技公司对于芯片的的需求激增，人们开始了解到光刻机这种设备。人们或许会奇怪为什么一些公司能够设计出高档的芯片，例如华为的麒麟芯片的性能不输高通的骁龙芯片，却无法自己生产而需要代工呢。这里涉及到一种“卡脖子”技术——光刻机。下面讨论一下光刻机市场供不应求的原因。

鉴于我国实际的EUV生产状态和国外技术的封锁，可想而知，EUV光刻机在我国市场是供不应求的。EUV光刻机可以看作是一种限制他国的技术手段，长期引进也不是一条长远的道路，为了国家在这方面高端技术有一席之地，科研人员仍然需要努力奋斗，在外国的封锁中走出属于自己的一条路。

③ 如何看待长春光机所euv光刻机进展

长春光机所EUV光刻机此次进展是国产光刻机光源的突破性进展，技术水平领先世界。

众所周知，EUV光刻机是目前制造高端芯片所需要的最关键设备，只有荷兰的ASML公司能生产，这也是我国科技方面卡脖子的关键技术之一。

我国目标是要在2025年实现芯片自给率70%，要想实现这个目标，在高端EUV光刻机上实现突破是关键。

长春光机所EUV光刻机此次进展无疑给高端EUV光刻机的研究工作打了一剂强心针。

长春光机所科研成果：

2015年，研究所研制出中国第一台红宝石激光器、第一台大型电影经纬仪等多种先进设备仪器，创造了十几项“中国第一”。

先后参与了包括“两弹一星”、“载人航天工程”等多项国家重大工程项目，先后组建和援建了西安光机所、上海光机所、成都光电所、长春光机学院等10余家科研机构、大专院校和企业单位。

完成了一批国家重大任务，取得了以“神舟五号”、“神舟六号”有效载荷等为代表的一批重大科研成果。

成为中国航天光学遥感与测绘设备、机载光电平台及新一代航空遥感设备和靶场大型光测装备的主要研究、生产基地，在光电对抗、地基空间探测等领域具有影响力。

2016年11月11日，由中国科学院长春光学精密机械与物理研究所承担的国家重大科研装备研制项目“大型高精度衍射光栅刻划系统的研制”通过验收，并制造出世界最大面积中阶梯光栅。

这标志着我国大面积高精度光栅制造中的相关技术达到国际领先水平。

不仅打破了我国在该领域受制于人的局面，而且能帮助我国光谱仪器产业改变低端化现状，提升拓展国际市场的能力。

④ 集全国之力，中国能否在2030年实现EUV光刻机国产化

首先，我们明白，光刻机有很多种类，比如前道光刻机、后道光刻机，后道光刻机主要用于封装，而前道光刻机又分为面板光刻机和芯片光刻机。我们大家所说的光刻机其实主要指的是前道光刻机里的芯片光刻机。

⑤ 对于冰刻技术来说，在理论和技术上能实现现在的EUV光刻机的精度吗

为了使水蒸气凝结在芯片上，必须在零下140C进行，此外，还需要使用电子束刻印机，所以雕刻一点的速度很慢。从制造效率来看，这种冰雕技术不如光刻机。冰角的分辨率主要取决于电子束刻印机。电子束直写的准确度已经达到10纳米以下，但国内电子束直写的准确度只有1微米，没有达到纳米级别。事实上，冰雕技术只是用水蒸气代替了化学的广角粘合剂。冰块系统发布了。这次冰雕是升级版本，主要是将原料生产成成品。因为传统的光刻胶是化学试剂，所以光刻胶完成后必须清洗，如果清洗不干净，产率可能会下降。水蒸气凝固代替传统的光致抗蚀剂后，没有清洁、不清洁等问题。

90nm的碳基芯片性能相当于28nm的硅基芯片，45nm的碳基芯片相当于7nm的硅基芯片。但是碳基芯片仍然需要使用光刻机，目前国内工艺最小的光刻机也停留在90nm，使用冰胶的电子束直接写入光刻机仍然在微米层。因此，此次冰面技术对国内碳基芯片没有太大帮助。可以用很多方法制作芯片，甚至精度比光刻机高，但最大的问题是没有办法解决效率问题，光刻机现在是最有效率的。据路边社报道，实际上全世界对euv光刻机器的需求只有600台。也就是说，这东西效率相当高。

⑥ EUV光刻机与原子弹，相比之下哪一个更难造

光刻机和原子弹相比到底哪个难，这两个其实没有办法放在一块去比较，因为两者不是处于一个时代的东西，要比较两个事物，它本身一定是有相同的地方，要么是纵轴上有相似，要么就是横轴上有相似，但显然光刻机和原子弹他们两个应用的领域和时代完全不同。

一台高精度的光刻机，有10多万个零件组成，集合了全球几千家科技公司的智慧结晶，可以说一台高端的光刻机，它制作出来的芯片就相当于是一个模拟的人类大脑，这可以说是人类智慧文明的巅峰，目前来说应该是这样的，所以光刻机的制造不是那么简单的事情，这需要一个长年累月的研究，也需要技术的积累。

⑦ 光刻机里面EUV是什么

光刻机里面的意犹未的意思就是你达到正常的范围，它就会给你报警。

⑧ EUV光刻机难还是原子弹难

光刻机和原子弹不是一个时代的东西，制造的难度也各不相同，因为两者不是一个时代的，所以不能把它完全的放在一块去比较，但是如果非要去计较它的制造难度的问题的话，显然是现在的功课机制造起来更难。

从一项科技的研发上来看是现在的光刻机会更难，因为原子弹已经是攻克的东西了，我们做一个比喻就是我们在初中学的那些东西和在大学学的那个东西，到底哪个更难，肯定是大学的东西更难，因为初中的东西我们已经完全掌握了，不然的话也到不了大学时代，在不断的发展，不是一个时代的东西，把初中和高中的难度放在一块去比较肯定是不现实的，就像原子弹和光刻机放在一块去比较，他们差了60年的时间，时代不同。

⑨ 韩国芯片巨头斥资280亿，采购EUV光刻机，为何EUV光刻机很难制造

当芯片技术进入7nm的时候，会用到一台光刻机，就是EUV光刻机，也是一台极紫外光刻机，但是这台光刻机目前只能由荷兰的ASML制造。那么问题来了。EUV光刻机制造的难点是什么？为什么只有ASML能制造，而中国的佳能、尼康、上海微电子不能？首先要说的是，极紫外线的产生过程真的很难。EUV光刻机使用极紫外线，即“极紫外线”，波长为13.5纳米(可见光中波长最短的紫光，波长约为380-450纳米)。在ASML EUV光刻机中，高纯锡被加热熔化，然后喷入真空中形成锡珠。然后对这些焊珠进行激光照射，使其变成粉饼，再对这些粉饼进行大功率二氧化碳激光照射，然后发射出极远的紫外线。

因此，这几步加在一起，目前全球能够拥有 EUV光刻机技术的，也就只有 ASML，一是自身的技术实力，二是与 TRUMPF公司、 Callenco公司等深度结合，三是与三大公司的技术整合。